Date published: 2025-11-4

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Hexamethyldisiloxane (NMR grade) (CAS 107-46-0)

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대체 이름:
HMDSO
CAS 등록번호:
107-46-0
순도:
≥99%
분자량:
162.38
분자식:
C6H18OSi2
추가 정보:
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헥사메틸디실록산(NMR 등급)은 잘 정의된 화학적 이동 및 안정성 때문에 내부 표준 또는 교정 화합물로서 핵자기공명(NMR) 분광법에 사용된다. NMR과 관련된 연구 응용에서, 화학적 이동 척도에 대한 참조를 제공하여 다른 분자에서 원자핵의 자기적 특성을 정확하게 측정하는 데 도움을 준다. 또한 헥사메틸디실록산은 더 일반적인 용매에 쉽게 용해되지 않는 물질에 대한 NMR 연구에서 비반응성 불활성 용매로 사용된다. 유기실리콘 화합물의 NMR 연구에서 이의 역할은 특히 중요한데, 이는 연구 중인 화합물과 유사한 화학적 이동에서 공진할 수 있고 비교를 위한 명확한 기준선을 제공하기 때문이다. 또한, 헥사메틸디실록산은 점도 및 휘발성이 낮기 때문에 분석이 완료된 후 쉽게 제거될 수 있기 때문에 NMR 실험을 위한 샘플 준비에 유용하다.


Hexamethyldisiloxane (NMR grade) (CAS 107-46-0) 참고자료

  1. 헥사메틸디실록산으로 불소의 확산.  |  Hall, RJ. 1969. Talanta. 16: 129-33. PMID: 18960478
  2. (1) H MRI 산소 측정용 헥사메틸디실록산 기반 나노 프로브.  |  Gulaka, PK., et al. 2011. NMR Biomed. 24: 1226-34. PMID: 21412864
  3. 웨이퍼 클린룸에서 헥사메틸디실록산의 검출을 위한 Hadamard 변환 가스 크로마토그래피/질량 분석법의 응용.  |  Cheng, YK., et al. 2012. J Chromatogr A. 1220: 143-6. PMID: 22192564
  4. 혈장 내 헥사메틸디실록산 해리 과정의 비교.  |  Jauberteau, JL. and Jauberteau, I. 2012. J Phys Chem A. 116: 8840-50. PMID: 22812650
  5. 플라즈마 중합 헥사메틸디실록산 필름의 수성 환경에 대한 반응.  |  Blanchard, NE., et al. 2015. Langmuir. 31: 12944-53. PMID: 26451512
  6. 헥사메틸디실록산으로 비열 플라즈마 처리 후 유리 섬유 기둥의 표면 특성 분석.  |  de Souza Batista, VE., et al. 2017. J Adhes Dent. 525-533. PMID: 29260804
  7. 헥사메틸디실록산 저온 플라즈마 처리와 아밀로스 함량은 전분 기반 필름의 구조적, 장벽 및 기계적 특성을 결정합니다.  |  Sifuentes-Nieves, I., et al. 2019. Int J Biol Macromol. 124: 651-658. PMID: 30476514
  8. 헥사메틸디실록산의 탄소에 대한 기체 흡착: 등온선, 등방성 열 및 동역학.  |  Wang, G., et al. 2020. Chemosphere. 247: 125862. PMID: 31955043
  9. 극도로 비대칭적인 정전 용량성 RF 방전을 이용한 헥사메틸디실록산 코팅의 PECVD.  |  Gosar, Ž., et al. 2020. Materials (Basel). 13: PMID: 32384729
  10. 소수성 및 조직 특성이 환원 산화 그래핀 에어로젤에서 헥사메틸디실록산 흡착에 미치는 영향.  |  Hou, X., et al. 2021. Molecules. 26: PMID: 33672689
  11. 정적 중량 분석을 통해 제올라이트에 대한 헥사메틸디실록산의 흡착 및 확산 특성을 밝혀냈습니다.  |  Wang, G., et al. 2021. Water Res. 197: 117097. PMID: 33836298
  12. 제어된 표면 화학으로 코팅의 기질 독립적 증착을 위한 플라즈마 활성화 헥사메틸디실록산 기반 플라즈마 폴리머의 실란화.  |  Egghe, T., et al. 2022. ACS Appl Mater Interfaces. 14: 4620-4636. PMID: 35014795
  13. 대규모 플라즈마 중합 헥사메틸디실록산 박막: 전극 간 거리의 역할과 우수한 내식성.  |  Wang, Y., et al. 2022. ACS Appl Mater Interfaces. 14: 56169-56175. PMID: 36475578

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Hexamethyldisiloxane (NMR grade), 25 g

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