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(4-フェノキシフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフレートは、光酸発生剤としての役割から、主に光重合とフォトレジスト技術の分野で研究されている。この化合物に関する研究は、半導体製造における微細パターンの形成に重要な、紫外線照射時に強酸を放出する能力に焦点を当てている。研究では、高解像度フォトレジストの作成に不可欠な酸触媒重合反応の開始における(4-Phenoxyphenyl)diphenylsulfonium triflateの効率性を探求している。また、(4-フェノキシフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフレートの安定性と感度を、さまざまな波長と光の強さの下で厳密にテストし、さまざまな産業用途での性能を最適化した。さらに、(4-フェノキシフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフレートの使用による環境への影響(分解生成物や毒性を含む)を評価し、エレクトロニクス産業における安全で持続可能な使用を保証します。
注文情報
| 製品名 | カタログ # | 単位 | 価格 | 数量 | お気に入り | |
(4-Phenoxyphenyl)diphenylsulfonium triflate, 1 g | sc-396963 | 1 g | $102.00 |