Date published: 2025-9-18

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Tantalum(V) ethoxide (CAS 6074-84-6)

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Numéro CAS:
6074-84-6
Masse Moléculaire:
406.25
Formule Moléculaire:
C10H25O5Ta
Information supplémentaire:
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L'éthoxyde de tantale(V) est un composé chimique principalement utilisé dans le domaine de la science des matériaux pour le dépôt de films d'oxyde de tantale, qui sont intéressants en raison de leur constante diélectrique et de leur stabilité élevées. Ces propriétés font que les films peuvent être utilisés dans les appareils électroniques comme couches isolantes ou comme composants des condensateurs. En outre, l'éthoxyde de tantale(V) est utilisé comme précurseur dans les processus sol-gel, où il subit des réactions d'hydrolyse et de polycondensation pour former des matériaux à base d'oxyde de tantale à basse température. Ce composé joue également un rôle dans la synthèse de cadres métallo-organiques (MOF) qui intègrent le tantale, ainsi que dans la production de nanoparticules et d'autres matériaux nanostructurés. Les chercheurs étudient l'utilisation de l'éthoxyde de tantale(V) pour créer des revêtements aux propriétés anticorrosives ou catalytiques, élargissant ainsi les applications potentielles des matériaux à base de tantale. Dans le domaine de la synthèse chimique, ce composé est utilisé pour introduire le tantale dans des structures moléculaires complexes, explorant ainsi la chimie du tantale dans divers environnements de coordination.


Tantalum(V) ethoxide (CAS 6074-84-6) Références

  1. Nanoparticules multifonctionnelles Fe3O4/TaO(x) cœur/coquille pour l'imagerie par résonance magnétique et la tomographie à rayons X simultanées.  |  Lee, N., et al. 2012. J Am Chem Soc. 134: 10309-12. PMID: 22676237
  2. Nouveau revêtement hybride hiérarchique d'oxyde de tantale-PDMS pour les implants médicaux: Synthèse, caractérisation et modulation de la prolifération des fibroblastes.  |  Tran, PA., et al. 2017. J Colloid Interface Sci. 485: 106-115. PMID: 27662021
  3. Photocatalyseurs à base d'oxyde de tantale gyroïdal ordonné: élimination des limitations de diffusion et réglage des barrières de surface.  |  Cherevan, AS., et al. 2016. Nanoscale. 8: 16694-16701. PMID: 27714100
  4. Nanoparticules d'oxyde de tantale sans tensioactif: synthèse, propriétés colloïdales et application en tant qu'agent de contraste pour la tomographie assistée par ordinateur.  |  Koshevaya, E., et al. 2020. J Mater Chem B. 8: 8337-8345. PMID: 32794534
  5. Dépôt chimique métallurgique en phase vapeur de films de Ta2O5  |  A Porporati, S Roitti, O Sbaizero. 2003. Journal of the European Ceramic Society. 23: 247-251.
  6. Dépôt sélectif et micropatterning de couches minces d'oxyde de tantale à l'aide d'une monocouche  |  Yoshitake Masuda, Shinichi Wakamatsu, Kunihito Koumoto. 2004. Journal of the European Ceramic Society. 24: 301-307.
  7. Oxydation sélective d'un thioéther de pyrimidine à l'aide de catalyseurs au tantale supportés  |  V. Cimpeanu a, V. Pârvulescu b, V.I. Pârvulescu b, M. Capron c, P. Grange c, J.M. Thompson d, C. Hardacre d. 2005. Journal of Catalysis. 235: 184-194.
  8. Préparation d'éthoxyde de tantale de haute pureté par distillation sous vide  |  Sheng-hai YANG a, Yong-ming CHEN a, Hai-ping YANG a, Yin-yuan LIU a, Mo-tang TANG a, Guan-zhou QIU b. 2008. Transactions of Nonferrous Metals Society of China. 18: 196-201.
  9. Oxydation de sulfures catalysée par le tantale(V) ou le niobium(V) avec 30 % de peroxyde d'hydrogène  |  Masayuki Kirihara a, Junya Yamamoto a, Takuya Noguchi a b, Atsushi Itou a, Sayuri Naito a, Yoshiro Hirai b. 2009. Tetrahedron. 65: 10477-10484.
  10. Membranes de silice hybride microporeuse dopée pour la séparation des gaz  |  Hammad F. Qureshi, Rogier Besselink, Johan E. ten Elshof, Arian Nijmeijer & Louis Winnubst. 2015. Journal of Sol-Gel Science and Technology. 75: 180–188.
  11. Synthèse et caractérisation structurale de deux siloxydes complexes de tantale(V)  |  Sophie Ehle, Volker Lorenz, Phil Liebing, Liane Hilfert, Frank T. Edelmann. 2016. Inorganic Chemistry Communications. 74: 82-85.
  12. Fabrication de fibres de carbure de tantale et d'hafnium par ForcespinningTM pour des applications à ultra-haute température  |  Harold O. Lee,1Patricia H. Caraballa,2Avi G. Bregman,1Nelson S. Bell,1James R. Nicholas,1Marissa Ringgold,1and LaRico J. Treadwell. 2021. Advances in Materials Science and Engineering. 2021.
  13. Fabrication de films minces d'oxyfluorure et d'oxynitrure de tantale par ammonolyse de précurseurs de tétraéthoxo (β-dicétonato) tantale (V) traités par voie sol-gel pour une activité photocatalytique améliorée  |  Mohd. Danish, Ashutosh Pandey, Aftab Aslam Parwaz Khan & Abdullah M. Asiri. 2021. Journal of Materials Science: Materials in Electronics. 32: 10564–10578.

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Nom du produitRef. CatalogueCOND.Prix HTQTÉFavoris

Tantalum(V) ethoxide, 10 g

sc-251102
10 g
$123.00