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アルキルホスホン酸である6‐ホスホノヘキサン酸は,種々の表面上に自己集合単分子層を形成する顕著な能力を有する。この化合物は表面原子のグラフト化を容易にするカルボキシル基を特徴とし,一方ホスホン基は基板材料の表面改質を可能にする。in vitro研究は,6‐ホスホノヘキサン酸が免疫応答の調節に関与するインターロイキン‐2および他のサイトカインの放出を阻害することによりアポトーシスを誘導することを示す。さらに,6‐ホスホノヘキサン酸はジスルフィド結合,硫黄原子間の共有結合,および窒素原子間のアミド結合の形成に阻害効果を示す。官能化6‐ホスホノヘキサン酸は遊離6‐ホスホノヘキサン酸と比較して高い生成速度を示し,溶液中での安定性を増強した。
注文情報
製品名 | カタログ # | 単位 | 価格 | 数量 | お気に入り | |
6-Phosphonohexanoic acid, 1 g | sc-233643 | 1 g | $82.00 |