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Le triflate de (4-phénoxyphényl)diphénylsulfonium est principalement étudié dans le domaine de la photopolymérisation et de la technologie des résines photosensibles en raison de son rôle de générateur de photoacides. La recherche sur ce composé se concentre sur sa capacité à libérer des acides forts lors de l'exposition à la lumière ultraviolette, ce qui est essentiel pour le développement de motifs fins dans la fabrication des semi-conducteurs. Des études explorent l'efficacité du triflate de (4-Phénoxyphényl)diphénylsulfonium pour initier des réactions de polymérisation catalysées par l'acide, qui sont essentielles pour créer des résines photosensibles de haute résolution. La stabilité et la sensibilité du triflate de (4-phénoxyphényl)diphénylsulfonium sous différentes longueurs d'onde et intensités de lumière sont également rigoureusement testées afin d'optimiser ses performances dans diverses applications industrielles. En outre, l'impact environnemental de l'utilisation du triflate de (4-phénoxyphényl)diphénylsulfonium, y compris ses produits de dégradation et sa toxicité, est évalué afin de garantir une utilisation sûre et durable dans l'industrie électronique.
Informations pour la commande
| Nom du produit | Ref. Catalogue | COND. | Prix HT | QTÉ | Favoris | |
(4-Phenoxyphenyl)diphenylsulfonium triflate, 1 g | sc-396963 | 1 g | $102.00 |