Date published: 2026-2-11

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Tetrakis(dimethylamino)titanium (CAS 3275-24-9)

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Nombres Alternativos:
TDMAT; Tetrakis(dimethylamino)titanium(IV)
Número de CAS:
3275-24-9
Peso Molecular:
224.17
Fórmula Molecular:
C8H24N4Ti
Para Uso Exclusivo en Investigación. No está diseñado para uso en diagnosis o terapia.
Available in US only.
* En el Certificado de Análisis específico de lote, puede encontrar información específica (como el contenido en agua).

ENLACES RÁPIDOS

El tetraquis(dimetilamino)titanio funciona como fuente de titanio en la síntesis de diversos materiales que contienen titanio. El mecanismo de acción del tetraquis(dimetilamino)titanio consiste en su capacidad de sufrir descomposición térmica, liberando dimetilamina y formando películas de dióxido de titanio sobre sustratos. El tetraquis(dimetilamino)titanio interviene en la producción de películas finas para aplicaciones como dispositivos fotovoltaicos, sensores y revestimientos ópticos. El tetraquis(dimetilamino)titanio sirve como precursor del titanio, contribuyendo al desarrollo de materiales avanzados con propiedades a medida. Su mecanismo de acción implica su reactividad química y comportamiento de descomposición, permitiendo la deposición de películas de dióxido de titanio con espesor y composición controlados.


Tetrakis(dimethylamino)titanium (CAS 3275-24-9) Referencias

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  3. Mejora de las propiedades de barrera a la difusión de oxígeno de las películas delgadas de nitruro de rutenio-titanio preparadas mediante deposición de capas atómicas mejorada por plasma.  |  Jeong, SJ., et al. 2011. J Nanosci Nanotechnol. 11: 671-4. PMID: 21446521
  4. Síntesis de nanopartículas de anatasa uniformemente dispersas en el interior de láminas delgadas de sílice mesoporosa mediante ruptura y cristalización controladas de TiO2 amorfo depositado mediante deposición en capa atómica.  |  Sree, SP., et al. 2013. Nanoscale. 5: 5001-8. PMID: 23636429
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  11. Estudio de las especies superficiales durante la deposición térmica y por plasma de capas atómicas de películas de óxido de titanio mediante espectroscopia IR in situ y espectroscopia de fotoelectrones de rayos X in vacuo.  |  Vandenbroucke, SST., et al. 2020. Phys Chem Chem Phys. 22: 9262-9271. PMID: 32307490
  12. Conjunto de datos para películas finas de TiN preparadas mediante deposición de capas atómicas mejorada con plasma utilizando tetraquis(dimetilamino)titanio (TDMAT) y tetracloruro de titanio (TiCl4) como precursor.  |  Lee, WJ., et al. 2020. Data Brief. 31: 105777. PMID: 32551348
  13. Fotodetector UV basado en GaN tipo Schottky con película fina de TiN depositada en capa atómica como electrodos.  |  Su, L., et al. 2022. Opt Lett. 47: 429-432. PMID: 35030621
  14. Investigación Computacional del Bloqueo de Precursores durante la Deposición de Capas Atómicas Selectiva de Área Utilizando Anilina como Inhibidor de Pequeñas Moléculas.  |  Tezsevin, I., et al. 2023. Langmuir. 39: 4265-4273. PMID: 36921108

Información sobre pedidos

Nombre del productoNúmero de catálogoUNIDADPrecioCANTIDADFavoritos

Tetrakis(dimethylamino)titanium, 5 g

sc-272579
5 g
$244.00
EE.UU: Sólo disponible en EE.

Tetrakis(dimethylamino)titanium, 25 g

sc-272579A
25 g
$726.00
EE.UU: Sólo disponible en EE.

Tetrakis(dimethylamino)titanium, 100 g

sc-272579B
100 g
$2876.00
EE.UU: Sólo disponible en EE.

Tetrakis(dimethylamino)titanium, 1 kg

sc-272579C
1 kg
$27050.00
EE.UU: Sólo disponible en EE.