Date published: 2025-9-13

00800 4573 8000

SCBT Portrait Logo
Seach Input

Tetrakis(diethylamino)zirconium (CAS 13801-49-5)

0.0(0)
Escribir una reseñaHacer una pregunta

Número de CAS:
13801-49-5
Peso Molecular:
379.74
Fórmula Molecular:
C16H40N4Zr
Información suplementaria:
Está clasificada como Mercancía peligrosa para el transporte y puede estar sujeta a gastos de envío adicionales.
Para Uso Exclusivo en Investigación. No está diseñado para uso en diagnosis o terapia.
* En el Certificado de Análisis específico de lote, puede encontrar información específica (como el contenido en agua).

ENLACES RÁPIDOS

Tetrakis(diethylamino)zirconium es un compuesto químico que se investiga principalmente por sus aplicaciones en la ciencia de materiales, especialmente en el área de los procesos de deposición de capas atómicas (ALD, por sus siglas en inglés). Este compuesto actúa como precursor de zirconio, lo que permite la deposición precisa de películas delgadas que contienen zirconio, las cuales son fundamentales para la fabricación de dispositivos semiconductores. Su reactividad bajo condiciones controladas permite el estudio de la química de superficies y la cinética de crecimiento de películas delgadas, lo cual es crucial para mejorar el rendimiento de los componentes electrónicos. Los químicos a menudo emplean este compuesto en la síntesis de cerámicas y catalizadores a base de zirconio, explorando la influencia de sus ligandos en las propiedades del material resultante. Además, su utilidad en la producción de estructuras metal-orgánicas (MOFs) es de gran interés debido al potencial que estas estructuras tienen para aplicaciones de almacenamiento y separación de gases.


Tetrakis(diethylamino)zirconium (CAS 13801-49-5) Referencias

  1. Complejos de titanio y circonio de un ligando p-tert-butilcalix[5]areno que contiene fósforo: importancia del metal y la conformación en la unión ligando/metal.  |  Fan, M., et al. 2006. Inorg Chem. 45: 6490-6. PMID: 16878963
  2. Mecanismo de reacción de la deposición en capa atómica de óxido de circonio utilizando precursores de circonio con ligandos amino y agua.  |  Xu, R., et al. 2022. Front Chem. 10: 1035902. PMID: 36405315
  3. Resolución del Calor Generado en Reacciones Superficiales de Deposición de Capas Atómicas de ZrO2.  |  Bielinski, AR., et al. 2023. Angew Chem Int Ed Engl. e202301843. PMID: 37316957
  4. Estabilización de una fase ZrO2 cristalina de muy alto k mediante recocido postdeposición de dieléctricos ZrO2/La2O3 depositados en capa atómica sobre germanio  |  S. Abermann, C. Henkel, O. Bethge, G. Pozzovivo, P. Klang, E. Bertagnolli. 2010. Applied Surface Science. 256: 5031-5034.

Información sobre pedidos

Nombre del productoNúmero de catálogoUNIDADPrecioCANTIDADFavoritos

Tetrakis(diethylamino)zirconium, 5 g

sc-272578
5 g
$86.00