Date published: 2025-9-7

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Hexamethyldisiloxane (NMR grade) (CAS 107-46-0)

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Nombres Alternativos:
HMDSO
Número de CAS:
107-46-0
Pureza:
≥99%
Peso Molecular:
162.38
Fórmula Molecular:
C6H18OSi2
Información suplementaria:
Está clasificada como Mercancía peligrosa para el transporte y puede estar sujeta a gastos de envío adicionales.
For Research Use Only. Not Intended for Diagnostic or Therapeutic Use.
* Refer to Certificate of Analysis for lot specific data.

ENLACES RÁPIDOS

El hexametildisiloxano (grado RMN) se utiliza en espectroscopia de resonancia magnética nuclear (RMN) como patrón interno o compuesto de calibración debido a sus desplazamientos químicos bien definidos y a su estabilidad. En las aplicaciones de investigación que implican RMN, proporciona una referencia para la escala de desplazamiento químico, ayudando en la determinación precisa de las propiedades magnéticas de los núcleos atómicos en otras moléculas. El hexametildisiloxano también se emplea como disolvente no reactivo e inerte en los estudios de RMN de sustancias que no son fácilmente solubles en disolventes más convencionales. Su papel en los estudios de RMN de compuestos organosilícicos es especialmente importante porque puede resonar con desplazamientos químicos similares a los de los compuestos estudiados, lo que proporciona líneas de base claras para la comparación. Además, debido a su baja viscosidad y volatilidad, el hexametildisiloxano es útil en la preparación de muestras para experimentos de RMN, ya que puede eliminarse fácilmente una vez finalizado el análisis.


Hexamethyldisiloxane (NMR grade) (CAS 107-46-0) Referencias

  1. La difusión del fluoruro con hexametildisiloxano.  |  Hall, RJ. 1969. Talanta. 16: 129-33. PMID: 18960478
  2. Nanosondas basadas en hexametildisiloxano para oximetría por RMN (1) H.  |  Gulaka, PK., et al. 2011. NMR Biomed. 24: 1226-34. PMID: 21412864
  3. Aplicaciones de la cromatografía de gases por transformada de Hadamard/espectrometría de masas para la detección de hexametildisiloxano en una sala limpia de obleas.  |  Cheng, YK., et al. 2012. J Chromatogr A. 1220: 143-6. PMID: 22192564
  4. Comparación de los procesos de disociación del hexametildisiloxano en plasma.  |  Jauberteau, JL. and Jauberteau, I. 2012. J Phys Chem A. 116: 8840-50. PMID: 22812650
  5. Respuesta de las películas de hexametildisiloxano polimerizadas por plasma a los medios acuosos.  |  Blanchard, NE., et al. 2015. Langmuir. 31: 12944-53. PMID: 26451512
  6. Caracterización Superficial de un Poste de Fibra de Vidrio Tras el Tratamiento No Térmico con Plasma de Hexametildisiloxano.  |  de Souza Batista, VE., et al. 2017. J Adhes Dent. 525-533. PMID: 29260804
  7. El tratamiento con plasma frío de hexametildisiloxano y el contenido de amilosa determinan las propiedades estructurales, de barrera y mecánicas de las películas a base de almidón.  |  Sifuentes-Nieves, I., et al. 2019. Int J Biol Macromol. 124: 651-658. PMID: 30476514
  8. Adsorción gaseosa de hexametildisiloxano sobre carbones: Isotermas, calores isostéricos y cinética.  |  Wang, G., et al. 2020. Chemosphere. 247: 125862. PMID: 31955043
  9. PECVD de recubrimientos de hexametildisiloxano mediante descarga de RF capacitiva extremadamente asimétrica.  |  Gosar, Ž., et al. 2020. Materials (Basel). 13: PMID: 32384729
  10. Efectos de la hidrofobicidad y las propiedades texturales en la adsorción de hexametildisiloxano en aerogeles de óxido de grafeno reducido.  |  Hou, X., et al. 2021. Molecules. 26: PMID: 33672689
  11. Desentrañando las propiedades de adsorción y difusión del hexametildisiloxano sobre zeolitas mediante análisis gravimétrico estático.  |  Wang, G., et al. 2021. Water Res. 197: 117097. PMID: 33836298
  12. Silanización de polímeros de plasma activados por plasma a base de hexametildisiloxano para la deposición independiente del sustrato de recubrimientos con química de superficie controlada.  |  Egghe, T., et al. 2022. ACS Appl Mater Interfaces. 14: 4620-4636. PMID: 35014795
  13. Películas finas de hexametildisiloxano polimerizadas por plasma a gran escala: Papel de la Distancia Interelectrodo y Excelente Resistencia a la Corrosión.  |  Wang, Y., et al. 2022. ACS Appl Mater Interfaces. 14: 56169-56175. PMID: 36475578

Información sobre pedidos

Nombre del productoNúmero de catálogoUNIDADPrecioCANTIDADFavoritos

Hexamethyldisiloxane (NMR grade), 25 g

sc-505690
25 g
$38.00