

ENLACES RÁPIDOS
El triflato de (4-fenoxifenil)difenilsulfonio se investiga principalmente en el campo de la fotopolimerización y la tecnología fotorresistente debido a su papel como generador de fotoácidos. La investigación sobre este compuesto se centra en su capacidad para liberar ácidos fuertes tras la exposición a la luz ultravioleta, lo que resulta crítico en el desarrollo de patrones finos en la fabricación de semiconductores. Los estudios exploran la eficacia del triflato de (4-fenoxifenil)difenilsulfonio para iniciar reacciones de polimerización catalizadas por ácidos, esenciales para crear fotorresinas de alta resolución. La estabilidad y sensibilidad del triflato de (4-fenoxifenil)difenilsulfonio bajo diferentes longitudes de onda e intensidades de luz también se someten a pruebas rigurosas para optimizar su rendimiento en diversas aplicaciones industriales. Además, se evalúa el impacto medioambiental del uso del triflato de (4-fenoxifenil)difenilsulfonio, incluidos sus productos de descomposición y toxicidad, para garantizar un uso seguro y sostenible en la industria electrónica.
Información sobre pedidos
| Nombre del producto | Número de catálogo | UNIDAD | Precio | CANTIDAD | Favoritos | |
(4-Phenoxyphenyl)diphenylsulfonium triflate, 1 g | sc-396963 | 1 g | $102.00 |