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四乙氧基二甲基氨基乙氧基钽,在化学研究领域经常被使用,它是合成复杂含钽化合物的重要前驱体,特别是在材料科学领域。这种化学物质通过化学气相沉积(CVD)工艺沉积钽基材料,显示出其独特的实用性,该技术对于开发应用于电子和纳米技术的薄膜和涂层至关重要。其独特的组成成分允许微调沉积条件,从而能够精确控制所得材料的形态和化学组成。作为一种研究工具,它有助于探索钽的特性,如高熔点、耐腐蚀性和导电性,这些特性对于制造电容器、大功率电阻和先进的半导体非常重要。通过其应用,科学家们能够更深入地了解钽如何融入尖端技术,并为创新材料做出贡献,提高性能特性。
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产品名称 | 产品编号 | 规格 | 价格 | 数量 | 收藏夹 | |
Tantalum Tetraethoxydimethylaminoethoxide, 5 g | sc-258190 | 5 g | $221.00 |