Date published: 2025-9-13

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Tetrakis(diethylamino)zirconium (CAS 13801-49-5)

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Numero VAT:
13801-49-5
Peso Molecular:
379.74
Separar por Funcao:
C16H40N4Zr
Informação complementar:
Este produto está classificado como um Bem Perigoso para transporte e pode estar sujeito a custos de envio adicionais.
Para uso em exclusivo em pesquisa. Não se destina a uso em diagnostico e tratamento.
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O tetraquis(dietilamino)zircónio é um produto químico investigado principalmente pelas suas aplicações na ciência dos materiais, particularmente na área dos processos de deposição de camadas atómicas (ALD). Este composto actua como um precursor de zircónio, permitindo a deposição precisa de películas finas contendo zircónio que são parte integrante do fabrico de dispositivos semicondutores. A sua reatividade em condições controladas permite o estudo da química da superfície e da cinética de crescimento de películas finas, essenciais para melhorar o desempenho dos componentes electrónicos. Os químicos utilizam frequentemente este composto na síntese de cerâmicas e catalisadores à base de zircónio, explorando a influência dos seus ligandos nas propriedades dos materiais resultantes. Além disso, a sua utilidade na produção de estruturas metal-orgânicas (MOFs) é de grande interesse devido ao potencial que estas estruturas têm para aplicações de armazenamento e separação de gases.


Tetrakis(diethylamino)zirconium (CAS 13801-49-5) Referencias

  1. Complexos de titânio e zircónio de um ligando p-tert-butilcalix[5]areno contendo fósforo: importância do metal e da conformação na ligação ligando/metal.  |  Fan, M., et al. 2006. Inorg Chem. 45: 6490-6. PMID: 16878963
  2. Mecanismo de reação da deposição em camada atómica de óxido de zircónio utilizando precursores de zircónio com ligandos amino e água.  |  Xu, R., et al. 2022. Front Chem. 10: 1035902. PMID: 36405315
  3. Resolução do calor gerado pelas reacções de superfície da deposição de camada atómica de ZrO2.  |  Bielinski, AR., et al. 2023. Angew Chem Int Ed Engl. e202301843. PMID: 37316957
  4. Estabilização de uma fase cristalina muito elevada de ZrO2 por recozimento pós-deposição de dieléctricos de ZrO2/La2O3 depositados por camada atómica sobre germânio  |  S. Abermann, C. Henkel, O. Bethge, G. Pozzovivo, P. Klang, E. Bertagnolli. 2010. Applied Surface Science. 256: 5031-5034.

Informacoes sobre ordens

Nome do ProdutoNumero de CatalogoUNIDPrecoQdeFAVORITOS

Tetrakis(diethylamino)zirconium, 5 g

sc-272578
5 g
$86.00