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O triflato de (4-fenoxifenil)difenilsulfónio é investigado principalmente no domínio da fotopolimerização e da tecnologia de fotorresistência devido ao seu papel como gerador de fotoácidos. A investigação sobre este composto centra-se na sua capacidade de libertar ácidos fortes após exposição à luz ultravioleta, o que é fundamental para o desenvolvimento de padrões finos no fabrico de semicondutores. Os estudos exploram a eficiência do triflato de (4-fenoxifenil)difenilsulfónio no início de reacções de polimerização catalisadas por ácido, que são essenciais para a criação de fotorresistências de alta resolução. A estabilidade e a sensibilidade do triflato de (4-fenoxifenil)difenilsulfónio sob diferentes comprimentos de onda e intensidades de luz são também rigorosamente testadas para otimizar o seu desempenho em várias aplicações industriais. Além disso, o impacto ambiental da utilização do triflato de (4-fenoxifenil)difenilsulfónio, incluindo os seus produtos de degradação e toxicidade, é avaliado para garantir uma utilização segura e sustentável na indústria eletrónica.
Informacoes sobre ordens
| Nome do Produto | Numero de Catalogo | UNID | Preco | Qde | FAVORITOS | |
(4-Phenoxyphenyl)diphenylsulfonium triflate, 1 g | sc-396963 | 1 g | $102.00 |