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Il triflato di (4-fenossifenile)difenilsolfonio è studiato principalmente nel campo della fotopolimerizzazione e della tecnologia dei fotoresistenti per il suo ruolo di generatore di fotoacidi. La ricerca su questo composto si concentra sulla sua capacità di rilasciare acidi forti all'esposizione alla luce ultravioletta, che è fondamentale per lo sviluppo di modelli fini nella produzione di semiconduttori. Gli studi esplorano l'efficienza del triflato di (4-fenossifenile)difenilsolfonio nell'avviare reazioni di polimerizzazione catalizzate da acidi, essenziali per creare fotoresistenze ad alta risoluzione. La stabilità e la sensibilità del (4-fenossifenil)difenilsolfonio triflato a diverse lunghezze d'onda e intensità di luce sono state rigorosamente testate per ottimizzarne le prestazioni in varie applicazioni industriali. Inoltre, viene valutato l'impatto ambientale dell'uso del triflato di (4-fenossifenile)difenilsolfonio, compresi i suoi prodotti di degradazione e la sua tossicità, per garantire un uso sicuro e sostenibile nell'industria elettronica.
Informazioni ordini
| Nome del prodotto | Codice del prodotto | UNITÀ | Prezzo | Quantità | Preferiti | |
(4-Phenoxyphenyl)diphenylsulfonium triflate, 1 g | sc-396963 | 1 g | $102.00 |