Date published: 2025-9-13

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Tantalum(V) ethoxide (CAS 6074-84-6)

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Numero CAS:
6074-84-6
Peso molecolare:
406.25
Formula molecolare:
C10H25O5Ta
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L'etossido di tantalio (V) è un composto chimico utilizzato principalmente nel campo della scienza dei materiali per la deposizione di film di ossido di tantalio, interessanti per la loro elevata costante dielettrica e stabilità. Queste proprietà rendono i film adatti all'uso nei dispositivi elettronici come strati isolanti o come parte dei condensatori. Inoltre, l'etossido di tantalio(V) è utilizzato come precursore nei processi sol-gel, dove subisce reazioni di idrolisi e policondensazione per formare materiali a base di ossido di tantalio a basse temperature. Il composto è anche fondamentale per la sintesi di strutture metallo-organiche (MOF) che incorporano il tantalio, nonché per la produzione di nanoparticelle e altri materiali nanostrutturati. I ricercatori studiano l'uso dell'etossido di tantalio(V) per creare rivestimenti con proprietà anticorrosive o catalitiche, ampliando le potenziali applicazioni dei materiali a base di tantalio. Nel campo della sintesi chimica, questo composto viene utilizzato per introdurre il tantalio in strutture molecolari complesse, esplorando la chimica del tantalio in vari ambienti di coordinazione.


Tantalum(V) ethoxide (CAS 6074-84-6) Referenze

  1. Nanoparticelle core/shell multifunzionali di Fe3O4/TaO(x) per la risonanza magnetica simultanea e la tomografia computerizzata a raggi X.  |  Lee, N., et al. 2012. J Am Chem Soc. 134: 10309-12. PMID: 22676237
  2. Nuovo rivestimento ibrido gerarchico ossido di tantalio-PDMS per impianti medici: Sintesi one pot, caratterizzazione e modulazione della proliferazione dei fibroblasti.  |  Tran, PA., et al. 2017. J Colloid Interface Sci. 485: 106-115. PMID: 27662021
  3. Fotocatalizzatori ordinati di ossido di tantalio giroidale: eliminazione delle limitazioni alla diffusione e regolazione delle barriere superficiali.  |  Cherevan, AS., et al. 2016. Nanoscale. 8: 16694-16701. PMID: 27714100
  4. Nanoparticelle di ossido di tantalio senza tensioattivi: sintesi, proprietà colloidali e applicazione come agente di contrasto per la tomografia computerizzata.  |  Koshevaya, E., et al. 2020. J Mater Chem B. 8: 8337-8345. PMID: 32794534
  5. Deposizione chimica di vapore metallorganico di film di Ta2O5  |  A Porporati, S Roitti, O Sbaizero. 2003. Journal of the European Ceramic Society. 23: 247-251.
  6. Deposizione sito-selettiva e micropatterning di film sottili di ossido di tantalio utilizzando un monostrato  |  Yoshitake Masuda, Shinichi Wakamatsu, Kunihito Koumoto. 2004. Journal of the European Ceramic Society. 24: 301-307.
  7. Ossidazione selettiva di un tioetere pirimidinico utilizzando catalizzatori di tantalio supportati  |  V. Cimpeanu a, V. Pârvulescu b, V.I. Pârvulescu b, M. Capron c, P. Grange c, J.M. Thompson d, C. Hardacre d. 2005. Journal of Catalysis. 235: 184-194.
  8. Preparazione di etossido di tantalio di elevata purezza mediante distillazione sotto vuoto  |  Sheng-hai YANG a, Yong-ming CHEN a, Hai-ping YANG a, Yin-yuan LIU a, Mo-tang TANG a, Guan-zhou QIU b. 2008. Transactions of Nonferrous Metals Society of China. 18: 196-201.
  9. Ossidazione catalizzata da tantalio(V) o niobio(V) di solfuri con il 30% di perossido di idrogeno  |  Masayuki Kirihara a, Junya Yamamoto a, Takuya Noguchi a b, Atsushi Itou a, Sayuri Naito a, Yoshiro Hirai b. 2009. Tetrahedron. 65: 10477-10484.
  10. Membrane di silice ibrida microporosa drogata per la separazione dei gas  |  Hammad F. Qureshi, Rogier Besselink, Johan E. ten Elshof, Arian Nijmeijer & Louis Winnubst. 2015. Journal of Sol-Gel Science and Technology. 75: 180–188.
  11. Sintesi e caratterizzazione strutturale di due silossidi complessi di tantalio(V)  |  Sophie Ehle, Volker Lorenz, Phil Liebing, Liane Hilfert, Frank T. Edelmann. 2016. Inorganic Chemistry Communications. 74: 82-85.
  12. Realizzazione di fibre di carburo di tantalio e afnio tramite ForcespinningTM per applicazioni ad altissima temperatura  |  Harold O. Lee,1Patricia H. Caraballa,2Avi G. Bregman,1Nelson S. Bell,1James R. Nicholas,1Marissa Ringgold,1and LaRico J. Treadwell. 2021. Advances in Materials Science and Engineering. 2021.
  13. Produzione di film sottili di ossifluoruro e ossinitruro di tantalio tramite ammonolisi di precursori di tetraetossido (β-diketonato) di tantalio (V) trattati in sol-gel per una maggiore attività fotocatalitica  |  Mohd. Danish, Ashutosh Pandey, Aftab Aslam Parwaz Khan & Abdullah M. Asiri. 2021. Journal of Materials Science: Materials in Electronics. 32: 10564–10578.

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Tantalum(V) ethoxide, 10 g

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10 g
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